科教在线

上一篇:下一篇:
热门文章

【科技前沿】第23期:紧间距方向图修正的天线去耦技术研究新进展

作者:发布时间:2022年05月09日 09时45分

【编者按】为了更好地营造校园学术氛围,传播我校学术科研动态,即日起,学校在校园网开辟“科技前沿”专栏,定期总结、回顾学校师生取得的科研成果。欢迎广大师生及时把自己的学术科研成果以邮件的形式告诉我们,我们希望获得您以下成果信息:为政府、企业、媒体进行了专业咨询;科技成果通过了相关鉴定;科技成果落地、实现产业化;发表了高水平的学术论文;获得了专利授权;出版、编著了专著、教材;获得了科技奖励;在重要学术会议上进行了发言……

我们愿意为有学术追求的师生搭建一个交流的平台,希望在师生的努力下,学校的学术氛围日益浓厚,让我们为实现电子信息特色鲜明的高水平大学而奋斗。联系邮箱:dwxcb@guet.edu.cn


近日,我校信息与通信学院王宜颖博士团队与加拿大Concordia大学的著名天线专家AhmedA. Kishk博士团队在国际著名天线会议《2021 IEEE International Symposium on Antennas and Propagation and USNC-URSI Radio Science Meeting》上发表了题为“Vertical-Wall Between Tightly Spaced PatchAntennas for Decoupling and Radiation Pattern Correction”的论文。该会议是天线与传播领域的顶级会议,着重于相关技术新思想、新方法、新理论等方面的创新性突破。

面向5G和6G通信对设备小型化的发展需求,研究MIMO、相控阵等多天线系统的小型化技术是目前的一个焦点。但是,由于互耦的影响,天线的性能会发生变化,特别是当天线间距变为二十分之一波长的时候,天线性能变化会异常剧烈,这包括方向图偏斜和增益降低。目前采用贴片天线研究的去耦技术,在此紧间距时破坏了天线自身的特性,故此需要采取新的技术确保天线的性能不受耦合的影响。

文中采取立体墙技术对H面平行放置的、紧间距的两个贴片天线进行去耦,同时首次对其H面的辐射方向图进行了修正,使其最大辐射方向与单个贴片天线保持一致。该金属墙包括三个金属层和两个介质层,其中,中间金属层为全金属,主要辐射实现降低天线的耦合;中间层左右对称放置了同样的介质层和三金属条带层(最外层),用于实现天线方向图的修正。通过合理的调整,最终发现该方法不仅有效降低了紧间距天线的耦合问题,还对被耦合影响的H面方向图实现了有效的修正。